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光阻塗佈 微影技術是圖案化製程中將設計好的圖案從光罩或倍縮光罩上轉印到晶圓表面的光阻上時所使用的技術; 半導體產業則是在1950年採用微影技術來製造電晶體和積體電路 .... 半導體製程技術導論—羅正忠; www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Book.htm ...
半導體製程技術之簡介簡介 1. 1. 半導體製程技術之簡介. 簡介. 2. (Science 293, 2001: the first electronic digital computer (1950s), ENIAC, 19,000 vacuum tubes, 30 tons) ...
半导体制程概论chapter1-萧宏_百度文库 半導體製程技術導論Chapter 1 導論Hong Xiao, Ph. D. hxiao89@hotmail.com Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Boo k.htm 1 目標讀完本章之後, ...
《半導體製造流程》 半導體元件製造過程可概分為晶圓處理製程(Wafer Fabrication;簡稱Wafer. Fab)、晶 ... 電容體、邏輯閘等),為上述各製程中所需技術最複雜且資金投入最多的過程,.
光電半導體分組報告(3)-4.5磊晶成長.ppt 本圖轉用自歐亞書局出版半導體製程技術導論P106 圖4.19(a). 了解 磊晶(Epitaxy). ․磊晶應用? ~矽磊晶層在CMOS的應用~. P型晶圓. N型井區. P型井區. STI. n+. n+.